The goal of this NATO Advanced Research Workshop (ARW) entitled Defects in Advanced High-k Dielectric Nano-electronic Semiconductor Devices , which was held in St. Petersburg, Russia, from July 11 to 14, 2005, was to examine the very complex scientific issues that pertain to the use of advanced high dielectric constant (high-k) materials in next generation semiconductor devices. The special feature of this workshop was focus on an important issu...
De Defects in HIgh-k Gate Dielectric Stacks is een populaire optie voor Elektrotechniek. Esy heeft 1 prijs gevonden, de goedkoopste keuze is volgens ons Bol, maar bekijk de andere aanbieders om het zeker te weten. Links openen in een nieuwe tabblad. Bekijk hier onder de product specificaties. Meer product informatie beschikbaar bij Bol.
Defects in HIgh-k Gate Dielectric Stacks is onder andere te koop bij: Bol. Esy raadt altijd aan om meerdere aanbieders te bekijken om geen last minute deals mis te lopen.