Bol 75,99 75,99 Bekijk 
Amazon.nl Bekijk prijs The goal of this work is to develop unique holograms on a semiconductor-metal thin films to characterize as potential metamaterials. This is achievable by developing a fabrication recipe to include exposure methods, exposure dosages, and material development. This study developed an interference lithography capability at AFIT for the first time with period resolution below 230nm. It also identified initial acceptable photoresist materials and exp...
De Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt is een populaire optie voor Onderwijs & Didactiek. Esy heeft 1 prijs gevonden, de goedkoopste keuze is volgens ons Bol, maar bekijk de andere aanbieders om het zeker te weten. Links openen in een nieuwe tabblad. Bekijk hier onder de product specificaties. Meer product informatie beschikbaar bij Bol.
Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt is onder andere te koop bij: Bol. Esy raadt altijd aan om meerdere aanbieders te bekijken om geen last minute deals mis te lopen.
